SMEE заявила о локализации более 90% ключевых компонентов своих литографов

Китайская компания сообщила о массовом выпуске установок SSC800 и SSB800 для техпроцессов 110 и 280 нм и крупнее. По её данным, оборудование суммарно использовалось при обработке более 10 млн кремниевых пластин.

Китайский производитель полупроводникового оборудования Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) сообщил, что более 90% ключевых компонентов его литографов SSC800 и SSB800 производятся внутри страны. Обе серии уже выпускаются массово, пишет TrendForce со ссылкой на китайские отраслевые издания.

SSC800 использует KrF-литографию в глубоком ультрафиолетовом диапазоне и рассчитан на техпроцессы 110 нм и крупнее. SSB800 работает по технологии I-line и предназначен для норм 280 нм и крупнее, применяемых в силовых и аналоговых микросхемах, а также микроэлектромеханических системах. Обе серии относятся к оборудованию сухой проекционной литографии.

По заявленным данным, несколько установок работают на китайских фабриках логических микросхем и памяти. Совокупно они участвовали в обработке более 10 млн пластин; заявленная доступность оборудования превышает 92%.

На выставке CIIE, проходящей в Шанхае 5–10 ноября 2026 года, SMEE представила прозрачные макеты этих систем, показывающие оптические тракты и внутренние электромеханические узлы. Демонстрация макетов не означает, что серийный выпуск начался именно на выставке.